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Fotolack

Ein Photoresist (auch Resist genannt) ist ein lichtempfindliches Material, das in mehreren allgemeinen Prozessen verwendet wird, wie z. B. Photolithographie und Photogravur, um eine gemusterte Beschichtung auf einer Oberfläche zu bilden.

Der Resistprozess ist wichtig in der Elektronikindustrie, wie z. B. beim Bau von Leiterplatten oder Halbleitern (Mikroelektronik), beim Mikrokontaktdruck und beim Strukturieren und Ätzen von Substraten.

Positiver Photoresist

Der positive Fotolack ist eine Art von Photoresist, bei dem der Teil des Photoresists, der belichtet wird, für den Photoresist-Entwickler löslich wird. Sowohl in der Halbleiter- als auch in der PCB-Industrie bleibt der unbelichtete Teil des Photoresists für den Photoresist-Entwickler immer unlöslich. Beliebte positive Fotolacke wie:

  • AZ4620
  • AZ5214
  • AZ1500
  • Megaposit SPR 220-3.0
  • Megaposit SPR 220-7.0
Venture Fotolack

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